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半导体行业超纯水
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
半导体行业中的超纯水，又名UP水，主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电?元器件对超纯水使?水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。超纯水制备主要包括以下三个阶段，即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。其中，离子交换是将水中的正离子与离子交换树脂中的H+离?交换，水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换，从而达到纯化水的目的。
我公司半导体行业用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
电子工业用超纯水工艺大致分成以下3种：
1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
我司半导体工业超纯水设备特点：
电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
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